光刻膠十大品牌榜單由CNPP品牌大數(shù)據(jù)研究院經(jīng)過專業(yè)評審團研究和大數(shù)據(jù)篩選，聯(lián)合十大品牌網(wǎng)CNPP發(fā)布。研究基于大數(shù)據(jù)運算與人工智能分析，廣泛采集品牌企業(yè)公開信息及市場調(diào)研數(shù)據(jù)、行業(yè)研究報告，并交叉驗證了全球多機構(gòu)發(fā)布的權(quán)威排行，結(jié)合網(wǎng)絡(luò)公眾評議進行加權(quán)計算，形成科學(xué)、客觀的品牌評估體系，旨在為選擇地板提供獨立、可信的參考。上榜光刻膠十大品牌名錄的有：JSR、TOK東京應(yīng)化、ShinEtsu信越、DuPont杜邦、住友化學(xué)、FUJIFILM富士、DONGJIN東進世美肯、科華KEMPUR、晶瑞電材、雅克科技，榜單結(jié)果排序不分先后，僅供參考。
創(chuàng)立于1957年,全球領(lǐng)先的光刻膠生產(chǎn)商,光刻膠先進技術(shù)引領(lǐng)者,產(chǎn)品涵蓋G/I線光刻膠/KrF光刻膠/ArF光刻膠(干法/濕法)和EUV光刻膠等。
全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體材料供應(yīng)商,其光刻膠業(yè)務(wù)主要源于陶氏化學(xué)對羅門哈斯的收購,光刻膠產(chǎn)品主要涵蓋i線光刻膠/g線光刻膠/ArF光刻膠/KrF光刻膠。
創(chuàng)于1967年韓國,主要生產(chǎn)和銷售半導(dǎo)體及FPD用材料和發(fā)泡劑,1990年成功開發(fā)出光刻膠,2021年開發(fā)出EUV光刻膠。
集先進光刻膠產(chǎn)品研產(chǎn)銷為一體的擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的高新技術(shù)企業(yè),覆蓋KrF/I線/G線/紫外寬譜系列光刻膠。
集研發(fā)/生產(chǎn)和銷售于一體的科技型新材料公司,擁有紫外寬譜光刻膠/寬譜正膠/g線系列/i線光刻膠/KrF光刻膠系列等數(shù)十個型號產(chǎn)品。
成立于1997年，全球知名的半導(dǎo)體前驅(qū)體供應(yīng)商，是致力于電子半導(dǎo)體材料、深冷復(fù)合材料以及塑料助劑材料研發(fā)和生產(chǎn)的上市企業(yè)。作為國內(nèi)電子材料平臺型公司之一，公司產(chǎn)品布局廣闊，具備前驅(qū)體、SOD、LNG板材、硅微粉、電子特氣、光刻膠等產(chǎn)品量產(chǎn)能力，擁有完整的自主知識產(chǎn)權(quán)和40多項專利，成為國內(nèi)半導(dǎo)體材料行業(yè)佼佼者。
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